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Industry Standard FDSOI Compact Model BSIM-IMG for IC Design (Hu, Chenming / Khandelwal, Sourabh / Chauhan, Yogesh Singh / Mckay, Thomas / Watts, Josef / Duarte, Juan Pablo / Kushwaha, Pragya / Agarwal, Harshit)
Industry Standard FDSOI Compact Model BSIM-IMG for IC Design
Autor Hu, Chenming / Khandelwal, Sourabh / Chauhan, Yogesh Singh / Mckay, Thomas / Watts, Josef / Duarte, Juan Pablo / Kushwaha, Pragya / Agarwal, Harshit
Verlag Elsevier Science & Techn.
Sprache Englisch
Mediaform Adobe Digital Editions
Erscheinungsjahr 2019
Seiten 258 S.
Artikelnummer 35967547
ISBN 978-0-08-102402-7
Plattform EPUB
Kopierschutz Wasserzeichen
CHF 162.05
Zusammenfassung

Industry Standard FDSOI Compact Model BSIM-IMG for IC Design helps readers develop an understanding of a FDSOI device and its simulation model. It covers the physics and operation of the FDSOI device, explaining not only how FDSOI enables further scaling, but also how it offers unique possibilities in circuits. Following chapters cover the industry standard compact model BSIM-IMG for FDSOI devices. The book addresses core surface-potential calculations and the plethora of real devices and potential effects. Written by the original developers of the industrial standard model, this book is an excellent reference for the new BSIM-IMG compact model for emerging FDSOI technology.

The authors include chapters on step-by-step parameters extraction procedure for BSIM-IMG model and rigorous industry grade tests that the BSIM-IMG model has undergone. There is also a chapter on analog and RF circuit design in FDSOI technology using the BSIM-IMG model.

  • Provides a detailed discussion of the BSIM-IMG model and the industry standard simulation model for FDSOI, all presented by the developers of the model
  • Explains the complex operation of the FDSOI device and its use of two independent control inputs
  • Addresses the parameter extraction challenges for those using this model

Chenming Hu is TSMC Distinguished Chair Professor Emeritus at the University of California, Berkeley. He was the Chief Technology Officer of TSMC. He received the US Presidential Medal of Technology and Innovation from Pres. Barack Obama for developing the first 3D thin-body transistor FinFET, MOSFET reliability models and leading the development of BSIM industry standard transistor model that is used in designing most of the integrated circuits in the world. He is a member of the US Academy of Engineering, the Chinese Academy of Science, and Academia Sinica.He received the highest honor of IEEE, the IEEE Medal of Honor, and its Andrew Grove Award, Solid Circuits Award, and the Nishizawa Medal. He also received the Taiwan Presidential Science Prize and UC Berkeley's highest honor for teaching - the Berkeley Distinguished Teaching Award.Sourabh Khandelwal is an Associate Professor at Macquarie University. He is the lead author of two industry standard compact models: ASM-HEMT for GaN RF and power technology, and ASM-ESD for silicon ESD applications. He has also co-authored BSIM-CMG, BSIM-IMG and BSIM6 compact models during his tenure at the BSIM group at the University of California Berkeley. Dr Khandelwal has published 3 books and over 150 research papers. He regularly serves as consultant to multi-national semiconductor companies.Yogesh Singh Chauhan is a Chair professor in the department of electrical engineering at Indian Institute of Technology Kanpur, India. He is the developer of several industry standard models: ASM-HEMT, BSIM-BULK (formerly BSIM6), BSIM-CMG, BSIM-IMG, BSIM4 and BSIM-SOI models. His research group is involved in developing compact models for GaN transistors, FinFET, Nanosheet/Gate-All-Around FETs, FDSOI transistors, Negative Capacitance FETs and 2D FETs. His research interests are RF characterization, modeling, and simulation of semiconductor devices. He is the Fellow of IEEE and Indian National Academy of Engineering. He is the Editor of IEEE Transactions on Electron Devices and Distinguished Lecturer of the IEEE Electron Devices Society. He is the chairperson of IEEE U.P. section and IEEE-EDS Compact Modeling Committee. He has published more than 400 papers in international journals and conferences. He received Ramanujan fellowship in 2012, IBM faculty award in 2013 and P. K. Kelkar fellowship in 2015, CNR Rao faculty award, Humboldt fellowship and Swarnajayanti fellowship in 2018. He has served in the technical program committees of IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), IEEE International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD), IEEE European Solid-State Device Research Conference (ESSDERC), IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing (EDTM), and IEEE International Conference on VLSI Design and International Conference on Embedded Systems.Director of RF Innovation at Globalfoundries, USAPrincipal Member of Technical Staff at Globalfoundries USAJuan Pablo Duarte Sepúlveda obtained his Ph.D. at the University of California, Berkeley in 2018. He received his B.Sc. in 2010 and his M.Sc. in 2012, both in electrical engineering from the Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST). He held a position as a lecturer at the Universidad Tecnica Federico Santa Maria, Valparaiso, Chile, in 2012. He has authored many papers on nanoscale semiconductor device modeling and characterization. He received the Best Student Paper Award at the 2013 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD) for the paper: Unified FinFET Compact Model: Modelling Trapezoidal Triple-Gate FinFETs.